GB/T 6619-2009 硅片弯曲度测试方法

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基本信息
标准名称:硅片弯曲度测试方法
英文名称:Test methods for bow of silicon wafers
中标分类: 冶金 >> 半金属与半导体材料 >> 半金属与半导体材料综合
ICS分类: 电气工程 >> 半导体材料
替代情况:替代GB/T 6619-1995
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
首发日期:1985-06-17
作废日期:
主管部门: 国家标准化管理委员会
提出单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
起草单位:洛阳单晶硅有限责任公司
起草人:刘玉芹、蒋建国、冯校亮、张静雯
出版社:中国标准出版社
出版日期:2010-06-01
页数:12页
计划单号:20065632-T-469
书号:155066·139560
适用范围

本标准规定了硅单晶切割片?研磨片?抛光片(以下简称硅片)弯曲度的接触式测量方法?
本标准适用于测量直径不小于25mm,厚度为不小于180μm,直径和厚度比值不大于250的圆形硅片的弯曲度?本测试方法的目的是用于来料验收和过程控制?本标准也适用于测量其他半导体圆片
弯曲度?

前言

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引用标准

GB/T2828.1 计数抽样检验程序 第1部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划(GB/T2828.1-2003,ISO28591:1999,IDT)
GB/T14264 半导体材料术语

所属分类: 冶金 半金属与半导体材料 半金属与半导体材料综合 电气工程 半导体材料
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【英文标准名称】:Electrostatics--Part4-3:Standardtestmethodsforspecificapplications--Footwear
【原文标准名称】:静电学.第4-3部分:专用设备用标准试验方法.鞋类
【标准号】:JISC61340-4-3-2009
【标准状态】:现行
【国别】:日本
【发布日期】:2009-03-20
【实施或试行日期】:
【发布单位】:日本工业标准调查会(JP-JISC)
【起草单位】:TechnicalCommitteeonElectricityTechnology
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:A42
【国际标准分类号】:17_220_99;29_020;61_060
【页数】:10P;A4
【正文语种】:日语


【英文标准名称】:Geographicinformation-Spatialschema
【原文标准名称】:地理信息.空间图解
【标准号】:BSISO19107-2003
【标准状态】:现行
【国别】:英国
【发布日期】:2003-06-27
【实施或试行日期】:2003-06-27
【发布单位】:英国标准学会(BSI)
【起草单位】:BSI
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:元部件;建筑;数据表示;地理学;定义;大地测量学;向量(数学);坐标系(地理);数据描述;图解;编码;信息处理;数据处理;拓扑学;几何;信息;数据传送
【英文主题词】:
【摘要】:ISO19107:2003specifiesconceptualschemasfordescribingthespatialcharacteristicsofgeographicfeatures,andasetofspatialoperationsconsistentwiththeseschemas.Ittreatsvectorgeometryandtopologyuptothreedimensions.Itdefinesstandardspatialoperationsforuseinaccess,query,management,processing,anddataexchangeofgeographicinformationforspatial(geometricandtopological)objectsofuptothreetopologicaldimensionsembeddedincoordinatespacesofuptothreeaxes.
【中国标准分类号】:A76
【国际标准分类号】:35_240_70
【页数】:180P;A4
【正文语种】:英语